Просмотр по

Toshiba и SK Hynix развивают технологию наноимпринтинговой литографии

Toshiba и SK Hynix развивают технологию наноимпринтинговой литографии

Toshiba и SK Hynix сообщили о совместной разработке технологические процессы наноимпринтинговой литографии (nanoimprint lithography, NIL), которая позволит существенно снизить себестоимость производства разных типов памяти. Компании планируют начать производство по новой технологические процессы уже в 2017 г.

Наноимпринтинговая литография считается одной из перспективных технологий производства электроники следующего поколения. В отличии от традиционной фотолитографии, использующей лазеры и фоточувствительные маски для нанесения микросхем, NIL дает возможность изготавливать их путем штамповки — механической деформации резиста заранее созданным шаблоном. Таким образом возможно приобрести микросхемы по более тонким техпроцессам.

Toshiba уже инвестировала средства в разработку NIL, но объединив усилия с SK Hynix, она сможет ускорить прогресс и снять часть финансовой нагрузки. Инженеры компаний приступят к совместной работе в апреле этого года на предприятии Yokohama Complex, принадлежащем Toshiba.

Один комментарий на “Toshiba и SK Hynix развивают технологию наноимпринтинговой литографии”

  1. Pingback: Открыт самый эффективный материал для преобразования тепловой энергии | Новости ИТ
  2. Trackback: Открыт самый эффективный материал для преобразования тепловой энергии | Новости ИТ

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *